聚够网2019-05-16 02:44:00分类:科技

摩尔定律的旗手要转移到东方?三星神设计,颠覆半导体行业

就在大家都觉得摩尔定律难以为继的时候,三星忽然祭出一个神设计,将于2021年推出一项突破性的处理器技术,对最基本的电子元件进行根本性改造,使芯片性能提高35%,同时使能耗降低50%。

这明显是要颠覆半导体产业的节奏啊。近年来,芯片行业一直难以克服极端小型化带来的工程挑战。这项名为“环绕栅极”(gate all around,GAA)的技术能够对芯片核心晶体管进行重新设计和改造,使其更小更快。这是一个FinFET技术的有力的候选人之一。

这个GAA的示意图表示

为了更深入的了解一下该技术,我特意登了一下不常去的谷歌。

FinFET到达22纳米以下尺寸以后,随着fin 越来越窄(fin指的是蓝图中中间部分。),加工的误差相对增大,面临着量子隧穿效应和窄沟道效应。下面两图就是gate门的演化历史,目前分成了两条演化路径:横向 GAA和垂直GAA。

fin 越变越窄

切面示意图

两条演进途径 横向和垂直的GAA

而三星很明显的是才用的Lateral GAA架构,在工艺上能实现是一个很大的进步。看来,摩尔定律的大旗旗手要转移到东方了。

国际商业战略咨询公司(International Business Strategies)首席执行官汉德尔·琼斯(Handel Jones)表示,三星强大的材料研究项目正在取得成效。

他表示:“三星在GAA方面领先台积电大约一年时间。”“而英特尔可能落后三星两到三年。”

到2021年,如果三星能按时推出新的工艺的产品,DDR ram或者是CPU,那么就会在市场上极大地提升占有率。这对台湾的台积电和国内的紫光都形成了巨大压力。